Espectrómetro de electrones fotoemitidos por rayos-X (XPS)
Técnicos responsables

Dr. Ignacio Guadalupe Becerril Juárez

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Principio básico de la técnica

Su funcionamiento se basa en el efecto fotoeléctrico. Un haz de fotones de rayos-X con energía conocida incide sobre el material excitando los electrones de los niveles más profundos. La energía incidente excede a la energía de enlace y los electrones salen liberados con una energía cinética que es detectada y convertida en una señal digital (espectro). Así, a través de la  relación: KE = hn - EB, se obtiene información de la energía de enlace de los elementos que componen la superficie. El valor de h  es conocido y en este caso es de 1486.7 eV (Al-K  ). KE es la energía cinética detectada por el analizador y BE es la energía de enlace del electrón o fotoelectrón, como se le llama debido al proceso por el que fue liberado.


Beneficios

La técnica de XPS se utiliza para analizar compuestos inorgánicos, cerámicos semiconductores, catalizadores, aleaciones metálicas, bio-materiales, tintas, nanomateriales, piezas oseas, minerales, implantes médicos, recubrimientos, entre una gran variedad de materiales.
El desempeño de estos materiales y sus características de interacción con el entorno tales como adhesión, corrosión, biocompatibilidad, lubricación, conductividad, reflectividad, catálisis, están determinadas por su estructura química y de aquí la importancia de contar con una técnica de alta sensitividad como XPS.


Equipos especializados que emplean esta técnica en LINAN
PHI 5000 VersaProbe II. Patentado y de última
generación, tiene características excepcionales para
un análisis detallado y preciso. El sistema trabaja
con haz de rayos-X Al-Ka monocromático y cuyo
tamaño de spot puede ser de 9 um a 200um.
Este haz de rayos-X, a diferencia de los sistemas
convencionales, se produce por el escaneo de un haz
de alto voltaje (15kV) sobre un ánodo de aluminio,
generando a su vez un haz monocromado que escanea
la superficie de la muestra. Por la generación de
electrones secundarios, produce imágenes de
175um2 a 1300um2 con la que se pueden identificar
características específicas a ser analizadas.


Detalles más importantes

Usos y aplicaciones

Existe una creciente demanda en la utilización de XPS como una herramienta  para la solución de problemas de interacción con otras superficies o con el ambiente tales como: adhesión, corrosión, biocompatibilidad, lubricación, conductividad, reflectividad, catálisis, detección de contaminantes, magnetismo, por mencionar algunos.
La demanda en su aplicación final se ha incrementado en los últimos años, y se espera que continúe con este crecimiento en diversos sectores industriales de importancia económica



Servicio


Mayor Información

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Dr. Ignacio Guadalupe Becerril Juárez

Microscopia electrónica
Difracción de Rayos-X
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